Mess- und Analyseverfahren

Die Untersuchung und Bewertung von Materialien, Produkten und Prozessmedien der Halbleiterindustrie und technologieverwandter Branchen machen den Einsatz moderner Mess- und Analyseverfahren notwendig.

Entsprechend der Aufgabenstellung setzen wir Mess- und Analyseverfahren mit hoher Nachweisempfindlichkeit und hoher Ortsauflösung ein. Das SGS INSTITUT FRESENIUS verfügt über umfangreiche analytische Erfahrungen und betreibt moderne Dienstleistungslabore. Wir unterstützen Sie gern bei Ihrer Produktentwicklung, der Prozess- und Fertigungskontrolle sowie bei der Fehler- und Schadensanalyse.

Unsere Laborausrüstungen und Analyseverfahren:

  • Materialografie / Lichtmikroskopie
  • Rasterelektronenmikroskopie (REM)
  • Rasterkraftmikroskopie (AFM)
  • Transmissionselektronenmikroskopie (TEM)
  • Röntgendiffraktometrie (XRD)
  • Röntgenfluoreszensanalyse (RFA)
  • Röntgentopografie (XRT)
  • Elektronenstrahlmikroanalyse (ESMA)
  • Augerelektronenspektrometrie (AES)
  • Röntgenangeregte Photoelektronenspektrometrie (XPS)
  • Sekundärionenmassenspektrometrie (SIMS)
  • Flugzeit-Massenspektrometrie (TOF- SIMS)
  • Spreading Resistance Messungen (SRP)
  • Infrarotspektroskopie (FTIR, ATR)
  • Infrarotmikroskopie
  • Thermoanalyse (TG, DSC, DTA)
  • Massenspektrometrie (GC-MS, ICP-MS)
  • Optische Emissionsspektrometrie (ICP-OES)
  • Atomabsorptionsspektrometrie (AAS)
  • Ionenchromatografie (IC)
  • Flüssigchromatografie (HPLC)

Weitere Verfahren setzen wir bei Bedarf in Kooperation mit unseren Partnern ein.

Ihr Ansprechpartner

SGS INSTITUT FRESENIUS GmbH
Königsbrücker Landstr. 161
D-01109 Dresden
t: +49 351 8841 - 0
f: +49 351 8841 – 190

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